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產品中心激光與量測鏡頭及光學元件測試設備光學元件面型測量儀
產品型號：
更新時間：2025-11-08
廠商性質：代理商
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Kaleo MultiWave 是一臺多波長工作的光學元件面形測試系統，用于替代昂貴、低效、操作復雜的干涉儀，測量光學元件的表面面形、透過波差等參數。
Kaleo MultiWave 通過單次測量即可提供完整的3-D形貌及非平面元件的曲率。所有表面質量參數尊崇ISO 10110標準。表面不規則，粗糙度以及波紋亦可測試。
Kaleo MultiWave*的多波長測試功能可以在光學元件設計的工作波長進行測試，從而對光學元件基底、鍍膜獲得完整的評價。儀器具備和傳統干涉儀同等的精度，同時具備更大的動態范圍以測試復雜面形的光學元件。測試以雙程模式工作，兼容透射與反射測量。
多波長干涉儀：
同一機臺，多個波長
標配：625nm - 780nm - 1050nm
可選：UV - 400nm - 1100nm - 短波紅外
高動態范圍：
> 20um PV
高度畸變波前測試
高精度：
精度與干涉儀同等
高重復度，低噪聲
高性價比的干涉儀解決方案
規范：
遵從ISO 5725 標準
兼容MetroPro 格式
兼容 ISO 10110 格式
用途：
表面面形測試
鍍膜（AR，介質膜，金屬膜測試......）
窗片，干涉濾光片測試
透鏡，非平面鏡測試
應用：
光學元件研發制造
濾光片及窗片制造
空間及防務
汽車工業
激光器及其應用
光學元件面型測量儀KALEO MultiWave技術指標：
光路結構 | 雙通路 |
標準配置波長 | 625, 780, 1050nm |
可選波長 | 400 - 1100nm，UV, IR |
有效口徑 | 130mm |
可重復性 (ISO 5725) | < 5nm rms |
可再造性 (ISO 5725) | <7nm rms |
動態范圍 (失焦), RWE | 10um PV |
動態范圍 (失焦), TWE | 200nm rms |
精度 (RWE) | <80nm rms |
精度 (TWE) | <20nm rms |
光學元件面型測量儀KALEO MultiWave測試實例：
與Fizeau干涉儀測試結果的比較
NBP-780濾光片測試。二者測量RWE的偏差小于40nm P-V
非球面鏡3-D面形
單次測量，無需空白透鏡。可通過扣除理想曲面得知面形殘余誤差，從而獲知非球面鏡的加工質量。
產線設備監控
通過對塑料、樹脂模壓光學元件的直接測試，實時獲知加工效果，對模具狀態、工件調整精度等作出實時評價。
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