hiXAS實驗室級解決方案

• 基于實驗室的一站式EXAFS 和 XANES 系統

• 可實現同步輻射級別的譜圖

• 較高的信噪比

• 最寬可達 1 keV 的帶寬

德國 hp spectroscopy hiXAS 提供完整的實驗室級解決方案，用于擴展 X 射線吸收精細結構（EXAFS）和 X 射線吸收近邊結構（XANES）測量。系統采用緊湊設計，將X射線管光源、高分辨率光譜儀和混合探測器集成在一起，并配備軟件套件用于儀器控制和數據分析。
其譜圖質量可媲美同步輻射測量，因此無需再進行繁瑣的機時申請與等待。
X 射線管光源與光譜儀覆蓋 4–30 keV 能量范圍，包括 3d 過渡金屬的 K 吸收邊。采用優化的 HAPG von Hamos 光譜儀結構，可實現較高的信噪比。因此，即使分析物濃度低至幾個重量百分比也可進行測量。該系統兼具高效率與高光譜分辨率，在整個吸收邊范圍內分辨率可達 E/ΔE = 4000 且保持穩定。
hiXAS 還提供定制版本。對于更低能區的應用，請參考 proXAS。歡迎聯系我們以討論您的具體應用需求。

hiXAS 可用于 EXAFS 和 XANES 測量的元素范圍。即使是分析物濃度僅為幾個wt%的稀釋樣品，也可以在幾分鐘內完成測量。

hiXAS實驗室級解決方案
桌面型 XAS 系統
· X 射線吸收邊附近的結構分析
· 較高靈敏度.可分析物濃度低至 1 wt%
· 樣品全自動批量處理，無需手動更換晶體（分析晶體）

媲美同步輻射的譜圖質量
· 可精確重現同步輻射測量的光譜特征
· 高分辨本領達 4000
· 帶寬最高可達 600 eV
· 空間分辨檢測能力，可用于評估樣品均勻性

原位測量
· 快速多色（多能）采集技術支持原位操作條件下測量，即使在長時間實驗也同樣適用。
· 為復雜樣品環境（如氣體供應、加熱、低溫冷卻等）提供充足的樣品空間。
· 提供兩個接口，支持樣品裝置的長期使用。

來自 hixAS 的 10  μm  厚銅箔 xANES 譜（分辨本領E/ΔE = 4000 ，藍色曲線）與同步輻射測量結果（APS 光束線 13-ID-E ，分辨本領 E/ΔE = 8000，橙色曲線）的對比。

兩者高度一致，充分證明了 hixAS  的高質量測量性能。測量時間為 8 分鐘。

文獻來源：J. Anal. At. Spectrom. 35, 2298 (2020)

用于合成氣轉化的納米顆粒催化劑的氧化態分析。通過引入 M"  和 Fe  作為助劑，以調控反應的選擇性。

盡管 M"  含量僅為 1.4 wt% ，但 hixAS  測量結合參考譜圖對比，仍能夠清晰判定其氧化態。

文獻來源：Faraday Discuss. 208, 207 (2018)

EXAFS analysis
桌面型 XAS 系統
· 在吸收邊擴展范圍內進行結構分析
· 提供原子間距及近鄰配位數等信息
· 較大帶寬，高通量
媲美同步輻射的譜圖質量
·  高效率 HAPG 晶體提供實現EXAFS 所需的高光子通量（>107 ph/s）
·  極限寬帶達 1000 eV
·  高分辨本領達 1800，且在整個能量范圍內保持穩定
原位測量
· 即使是在持續數天的原位測量，仍然可以在大能量范圍的非掃描式采集后提供穩定的測量結果
· 非等間距譜數據處理可在大波矢范圍內提升信噪比。

hiXAS 對 10  μm  銅箔的 XAFS  測量示例，對比實驗室系統（紅線）與同步輻射（黑線）結果。左圖為 EXAFS  振蕩，右圖為對應的傅里葉變換結果。

所有峰位均被精確重現。測量時間為 3 分鐘。

文獻來源：J. Anal. At. Spectrom. 35, 2298 (2020)

hiXAS 可用于 EXAFS 和 XANES 測量的主要元素范圍。對于更高能量的吸收邊，可通過定制化系統版本進行擴展測量。

技術參數